脈沖激光沉積 （Pulsed laser deposition, PLD），就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛，可用來制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

我司高能量納秒激光器，針對該領(lǐng)域的優(yōu)勢是：

- 輸出能量高。各波長能量能量均高于300mJ

- 重復(fù)頻率高，燈泵浦和二極管泵浦納秒激光器均可以做到100-200Hz。LD系列激光器可以實現(xiàn)100KHz

- 多波長激光器內(nèi)部自動切換輸出，如532/355/266nm

- 高性價比。較傳統(tǒng)準分子激光器有更高的性價比